Elektronik Sicrystal erweitert SiC-Wafer-Produktionsfläche

Von Lina Demmel 0 min Lesedauer

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Der Halbleiterwafer-Hersteller „SiCrystal“ erweitert seinen Standort in Nürnberg. Mehr als 100 Jobs sollen entstehen.

Spatenstich bei Sicrystal für den Neubau in Nürnberg. V.l.:  Jürgen Voit und Daniel Polzin, Systeambau GmbH; Volker Petersik und Robert Eckstein, Sicrystal, Andrea Heilmaier, Wirtschaftsreferentin; Marcus König, Oberbürgermeister; Takashi Shimane und Erwin Schmitt, Sicrystal; Harald Lötsch, Systeambau.(Bild:  SiCrystal)
Spatenstich bei Sicrystal für den Neubau in Nürnberg. V.l.: Jürgen Voit und Daniel Polzin, Systeambau GmbH; Volker Petersik und Robert Eckstein, Sicrystal, Andrea Heilmaier, Wirtschaftsreferentin; Marcus König, Oberbürgermeister; Takashi Shimane und Erwin Schmitt, Sicrystal; Harald Lötsch, Systeambau.
(Bild: SiCrystal)

Sicrystal baut im Nordosten Nürnbergs, gegenüber des bestehenden Standorts, Produktionsflächen für Siliziumkarbid-Wafer. Das neue Gebäude erweitert die Produktion um zusätzliche 6.000 Quadratmeter. Das Unternehmen will seine Gesamtproduktionskapazität von 2024 bis zum Jahr 2027 etwa verdreifachen.

Die Bauarbeiten sollen bis Anfang 2026 abgeschlossen sein. Bis zum Ende des Geschäftsjahres 2027/28 will Sicrystal mehr als 100 weitere Beschäftigte einstellen.

Sicrystal ist ein Tochterunternehmen von Rohm Semiconductor und fertigt einkristalline Siliziumkarbid-Halbleiterwafer.

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